国产光刻机研发取得重要进展

国产光刻机研发取得重要进展，28纳米浸没式光刻机关键技术验证顺利通过，性能指标达到预期目标。

这一突破标志着中国在半导体核心装备领域的自主可控能力显著增强，有望逐步打破国外技术垄断。

业内专家表示，光刻机是半导体制造最核心的设备，国产化进程对保障中国芯片产业安全具有战略意义。