国产光刻机研发取得阶段性突破

科技来源:半导体行业作者:刘强2026年09月20日 09:00
国产光刻机研发取得阶段性突破

国内光刻机研发企业宣布在关键核心技术上取得阶段性突破,部分技术指标达到国际先进水平。

此次突破主要集中在光源系统、光学镜头和精密控制等核心部件,为国产光刻机整机研制奠定基础。

业内专家表示,国产光刻机从实验室走向产业化仍需时日,但技术积累正在加速推进。

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标签:科技半导体行业

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